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金属镓
Gallium metal
CAS号: 7440-55-3
分子式: Ga
分子量: 69.77
别名:
分子结构式:
  货号   品名   产品规格   包装   单价(RMB) 可用库存 备注 数量
150614 金属镓 5N,99.999% 250g 3489.00 >10 q-d
150613 金属镓 5N,99.999% 10g 279.00 >10 q-d
150612 金属镓 4N,99.99% 10g 199.00 >10 q-d
150611 金属镓 4N,99.99% 50g 599.00 >10 q-d
119349 金属镓 4N,99.99% 250g 1990.00 >10 q-d
119348 金属镓 7N,99.99999% 25g  6596.00 >10 q-d
119347 金属镓 6N,99.9999% 25g  3180.00 >10 q-d
119346 金属镓 7N,99.99999% 100g 7995.00 >10 q-d
119345 金属镓 6N,99.9999% 100g 9590.00 >10 q-d
119344 金属镓 5N,99.999% 50g 997.00 >10 q-d
119343 金属镓 7N,99.99999% 5g 956.00 >10 q-d
119342 金属镓 6N,99.9999% 5g 898.00 0 >10 q-d
119340 金属镓 SP 5g 427.00 >10 q-d
性状
质量标准
用途
危险性质
贮存

液态产品为银白色金属,固态产品为蓝白色金属,表面具有金属光泽,在30℃时变为发亮的液体,冷却至0℃而不固化,在干燥空气中稳定,在湿空气中氧化,溶于酸及碱,高温时与多种金属反应。
熔点:29.8 °C
沸点:2403 °C
密度:5.904

99.99% metals basis:


外观Appearance                          Silver Solid or Liquid
X-射线衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
纯度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities
ICP Major Analysis Confirmed            Confirms Gallium Component
痕量金属杂质total metallic impurities   ≤200ppm by ICP Atomic emission



99.999% metals basis:


外观Appearance                          Silver Solid or Liquid
X-射线衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
纯度Purity                              ≥99.999% Based on Trace Metals Impurities
ICP Major Analysis Confirmed            Confirms Gallium Component
痕量金属杂质total metallic impurities   ≤20ppm by ICP Atomic emission


99.9999% metals basis:


外观Appearance                          Silver Solid or Liquid
X-射线衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
纯度Purity                              ≥99.9999% Based on Trace Metals Impurities
ICP Major Analysis Confirmed            Confirms Gallium Component
痕量金属杂质total metallic impurities   ≤1ppm by ICP Atomic emission


99.99999% metals basis:


外观Appearance                          Silver Solid or Liquid
X-射线衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
纯度Purity                              ≥99.99999% Based on Trace Metals Impurities
ICP Major Analysis Confirmed            Confirms Gallium Component
痕量金属杂质total metallic impurities   ≤0.1ppm by ICP Atomic emission

是制备砷化镓、磷化镓、锑化镓等化合物半导体材料和氧化镓、高纯合金等制品的原料,也可用作锗、硅半导体的掺杂元素等。
将镓用作溶剂,已经成功地合成了三元硅化物 SmNiSi3 和 YNiSi3,而不用将镓掺入其结构中,这是一种非常有前景的镓的宽液态范围新合成方法。

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